1月12日，陜西光電子先導(dǎo)院先進光子器件工程創(chuàng)新平臺舉行核心設(shè)備搬入儀式。作為陜西省2022年重點建設(shè)項目，該臺依托“追光計劃”頂層設(shè)計，借助西科控股產(chǎn)業(yè)體系優(yōu)勢助推“1+2+N”光子產(chǎn)業(yè)布局構(gòu)想落地，打造領(lǐng)先的先進光子器件工程創(chuàng)新平臺。
據(jù)了解，陜西光電子先導(dǎo)院先進光子器件工程創(chuàng)新平臺項目是中科院西安光機所和西安高新區(qū)共同打造的秦創(chuàng)原“三器”平臺項目之一。項目占地30畝，建設(shè)中試車間、中試大樓、綜合樓和動力站等研發(fā)中試配套設(shè)施，總建筑面積約3萬平方米，潔凈廠房3000平方米，一期專業(yè)設(shè)備86臺(套)，具備以GaAs、GaN為主線，圍繞6英寸化合物芯片工藝服務(wù)能力的柔性中試平臺，可為光子產(chǎn)業(yè)孵化項目提供產(chǎn)品研發(fā)、中試、檢測等全流程技術(shù)服務(wù)。
該平臺技術(shù)服務(wù)模式(20%)+工程代工模式(80%)的結(jié)合，為光子產(chǎn)業(yè)各類創(chuàng)新主體，打通從產(chǎn)品研發(fā)到市場化批量供貨的完整鏈條，解決當前行業(yè)中小型創(chuàng)新企業(yè)流片困難的問題。通過與創(chuàng)新企業(yè)持續(xù)進行聯(lián)合研發(fā)，光子芯片制程中的光刻、刻蝕、蒸鍍等多項核心工藝技術(shù)不斷攻克，平臺軟硬件建設(shè)不斷完善。同時，平臺將有效解決第三代化合物半導(dǎo)體芯片卡脖子環(huán)節(jié)中的外延生長與制程問題，為客戶提供芯片制造環(huán)節(jié)中的全流程服務(wù)(如外延生長、光刻、刻蝕、薄膜制備、清洗、減薄、拋光、劃片等)。其客戶主要集中在光電芯片、功率器件、射頻器件等芯片設(shè)計企業(yè)、高校、科研院所等。
據(jù)介紹，光子技術(shù)產(chǎn)業(yè)是現(xiàn)代產(chǎn)業(yè)體系的“關(guān)鍵少數(shù)”，技術(shù)壁壘高、產(chǎn)業(yè)帶動性強、頭雁效應(yīng)明顯，是新一輪科技革命全球必爭之域。陜西省光子產(chǎn)業(yè)發(fā)展優(yōu)勢明顯，全省不僅擁有西安光機所、西安電子科技大學(xué)、西北工業(yè)大學(xué)等一批光子學(xué)科健全、特色鮮明的高校院所，具備豐厚的科研成果，還有擁有100余家光子技術(shù)企業(yè)，初步形成了光子制造、光子信息、光子傳感等產(chǎn)業(yè)集群。同時，陜西省在光子技術(shù)產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域也有著深厚的科研基礎(chǔ)，高折射率硅光芯片、微納光波導(dǎo)、光柵耦合器和VCSEL激光器、半極性GaN光電芯片襯底材料等方面均處于行業(yè)領(lǐng)先水平。
未來，陜西光電子先導(dǎo)院先進光子器件工程創(chuàng)新平臺將持續(xù)助力光子產(chǎn)業(yè)鏈上下游企業(yè)聚集，通過稀缺平臺資源+專業(yè)技術(shù)服務(wù)持續(xù)吸引光子產(chǎn)業(yè)上下游企業(yè)聚集。為解決實驗室無法工程化創(chuàng)新成果，而成熟芯片代工廠又難以承接小量創(chuàng)新產(chǎn)品產(chǎn)出的兩難局面，做到有效的工程化銜接。
同時吸引更多光子產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新要素匯聚陜西，為國家攻關(guān)一批解決“卡脖子”并引領(lǐng)未來的關(guān)鍵核心技術(shù)，培育一批具有先發(fā)優(yōu)勢和全球競爭力的光子產(chǎn)業(yè)冠軍企業(yè)，推動光子產(chǎn)業(yè)集群化、規(guī)�；⒏弋a(chǎn)值化發(fā)展。(中國日報陜西記者站)
責(zé)任編輯：楊英琦
